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值得注意的是,在芯片制造方面所需的光刻工艺,也有两个好消息

近段时间,在国家的半导体扶持计划下,“中国芯”频频传来捷报,引得关注国产半导体发展的国人一阵躁动。

首先是国内的芯片代工巨头中芯国际,成功完成可以和台积电代工的7nm芯片相媲美的FinFET N+1先进工艺的流片和测试;其次是一向低调的紫光展锐,成为继华为海思后,第二家成功自研出6nm芯片的企业。

打破日美垄断!国产高端光刻胶迎来新突破,7nm芯片用得上

不过有网友说光会自研芯片有什么用,我国最缺的仍是制造芯片的能力和设备。值得注意的是,在芯片制造方面所需的光刻工艺,也有两个好消息。

其一是芯片制造所不可或缺的关键设备——光刻机,中科院和上海微电子目前正全力投入在研发中,顺利的话,2021年就能实现量产。

其二是半导体制造的关键材料——光刻胶获得新突破,国内的宁波南大光电材料有限公司日前已宣布:将正式投产我国的第一条ArF高端光刻胶生产线。这条光刻胶生产线,正是用来生产国产7nm芯片的。我们在半导体发展中所遇到的问题,正在一点一点地得到解决。

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光刻胶取得新突破

光刻胶是半导体产业中的基础材料,也是生产、制造集成电路所需的核心材料。由于其主要作用是转移图像,因此光刻胶的质量、性能的优劣,对最终的成品具有至关重要的影响。如果质量稍有偏差,就会给企业带来巨大的损失。

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例如去年的台积电,就因为光刻胶的问题造成晶圆污染,最终报废了高达10万片晶圆,给企业造成了5.5亿美元(约人民币37亿元人民币)的损失。

品质要求高,加之光刻胶具有极高的技术壁垒,因此即便是和光刻机一样重要,能胜任该产业的企业也少之又少。

我国此前在高端光刻胶方面完全依赖进口,而如今,宁波南大光电已在该方面成功突破,并正式实现投产!

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据报道,部分客户目前已经收到南大光电的ArF光刻胶的样品,未来宁波南大光电将会陆续收到订单,根据预估,项目实现完全达产后,年销售额将有可能达到10亿元!这对南大光电是一个绝好的消息,对我国的半导体行业,又何尝不是一个突破性的好消息呢!

目前中芯国际刚刚投产的N+1先进芯片工艺(7纳米)正需要高端光刻胶,而国产企业在高端光刻胶上的成功量产意味着国产7纳米芯片又突破了一项关键材料的封锁。为完全国产化的7纳米芯片添砖加瓦,不再依赖国外的进口光刻胶!

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国产光刻胶抄了美日巨头的“后路”

光刻胶的产品用量较小,对质量的要求却十分高,因此从业公司屈指可数。在宁波南大光电之前,我国也是有做光刻胶生产的企业,但做的主要是低端光刻胶,比如只能应用在6英寸晶圆上的G线、I线这类光刻胶。

而高端的ArF光刻胶和EUV光刻胶主要被美国和日本的企业所把持,而且由于产品的局限性,不论是国内,还是全球光刻胶的市场规模,都不是很大。

去年全球光刻胶市场的规模才90亿美元(约合605.9亿元人民币),而我国国内的销售规模仅仅70亿元人民币,占全球市场份额的10%,主要还是低端光刻胶。

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目前的光刻胶市场,主要被全球五大厂商垄断,分别是日本的JSR、富士电子、东京应化和信越化学,以及美国的罗门哈斯。其中日本共占了72%的光刻胶市场份额,而美国的罗门哈斯占15%。

南大光电的ArF光刻胶生产线正式开始投产后,高端光刻胶的垄断局面将被打破,悄悄抄了美国日本光刻胶巨头的“后路”。

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众所周知,任何技术尖端成本高的技术,只要被我国企业攻克,最终的命运就是“白菜价”,这些美日光刻胶巨头再想靠垄断市场获得高利润的时代就要终结了。

我国也将会成功从完全依赖于国际市场,到实现自给自足、自力更生。掌握核心技术,不争朝夕,但一旦实现突破,我国将不再畏惧技术封锁!

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